Titânio do revestimento de vácuo Gr1 que engasga o alvo 133OD*125ID*840L

Titânio Gr1 ASTM B861-06 do alvo do tubo do titânio um 133OD*125ID*840L que engasga o alvo do revestimento de vácuo

O alvo de revestimento é uma fonte engasgar que forme vários filmes funcionais na carcaça pelo magnétron que engasga, chapeamento do íon do multi-arco ou outros tipos de sistemas de revestimento sob circunstâncias tecnologicos apropriadas. Para pô-lo simplesmente, o material de alvo é o material de alvo do bombardeio de alta velocidade das partículas carregadas. Quando usadas em armas de laser alta-tensão, as densidades de poder diferentes, as formas de onda diferentes da saída e os comprimentos de onda diferentes do laser interagem com os alvos diferentes, matança diferente e os efeitos da destruição serão produzidos. Por exemplo, o magnétron evaporativo que engasga o revestimento é revestimento aquecido da evaporação, filme de alumínio, etc. muda materiais de alvo diferentes (tais como de alumínio, de cobre, de aço inoxidável, o titânio, o alvo do níquel, etc.), pode obter sistemas diferentes do filme (tais como o filme duro, desgaste-resistente, anticorrosivo super da liga, etc.)
Um campo magnético ortogonal e o campo elétrico são adicionados entre o polo engasgado do alvo (cátodo) e o ânodo, e o gás inerte exigido (geralmente gás da AR) é enchido em uma câmara de vácuo alto. O ímã permanente forma um campo magnético de 250 ~ 350 gauss na superfície do material de alvo, que forma um campo eletromagnético ortogonal com o campo elétrico de alta tensão. Sob a ação do campo elétrico, a ionização de gás da AR em íons positivos e os elétrons, alvo e têm determinada pressão negativa, da ação do alvo do extremamente afetado pelo campo magnético e do aumento da probabilidade de trabalho da ionização de gás, formam um plasma do alto densidade perto do cátodo, de ião-árgon sob a ação da força de lorentz, velocidade acima para voar à superfície do alvo, bombardeando a superfície do alvo em uma alta velocidade, os átomos engasgados no alvo seguem o princípio e a mosca da conversão do impulso longe do alvo com a energia cinética alta à carcaça para o depósito do filme. Engasgar do magnétron é dividido geralmente em dois tipos: C.C. que engasga e engasgar do rf. O princípio de C.C. que engasga o equipamento é simples, e a taxa é rápida ao engasgar o metal. Engasgar do Rf é mais amplamente utilizado, além do que engasgar materiais condutores, igualmente pode engasgar materiais não-condutores, mas igualmente engasgar reativo para preparar óxidos, nitrogênio e carboneto e outros materiais compostos. Se a frequência da radiofrequência é aumentada, transforma-se engasgar do plasma da micro-ondas. Agora, o tipo engasgar da ressonância de ciclotrão do elétron (ECR) do plasma da micro-ondas é de uso geral.

Características

1. Baixos densidade e de grande resistência
2. personalizado de acordo com os desenhos exigidos por clientes
3. resistência de corrosão forte
4. resistência térmica forte
5. resistência da baixa temperatura
6. resistência térmica